Контакт
Как се пазарува?
Доставка
Наръчник за пазаруване
Fabrication of Bragg Gratings Using Interferometric Lithography
A guide to design a robust setup to fabricate Bragg Gratings at the telecommunication frequency
Английски език
127 b
До 30 дни за връщане на стоки
Клиентите са закупили също
/
С меки корици
51.49
€
100.71 лв
/
С меки корици
17.31
€
33.86 лв
/
С твърди корици
32.42
€
63.41 лв
/
С меки корици
28.41
€
55.57 лв
A setup has been designed and realized for the fabrication of Bragg Gratings in edge emitting semiconductor laser. In this setup a HeCd laser ( =325nm) is used in a Lloyd s mirror configuration, to interferometrically expose a sinusoidal grating on photoresist. The dilution of photo-resistant (PR) material allows for a spincoat thickness of 50nm which is needed to minimize standing waves in the photo-resist that lead to a nonuniform exposure. Variations of exposure time show the progression of photo-resist gratings. Etching recipes using both dry and wet etching techniques were successfully used to transfer the grating pattern into semiconductor material. Bragg Gratings with =250nm in InP and InGaAs have been characterized with an Atomic Force Microscope to have a grating height of over 100nm.
Информация за книгата
Английски език
Подарете тази книга днес
Лесно е
1 Добавете книгата в количката си и изберете Доставка като подарък 2 В замяна ще ви изпратим ваучер 3 Книгата ще пристигне на адреса на получателяМоже би ще Ви заинтересува
/
С твърди корици
195.34
€
382.05 лв
/
С меки корици
29.75
€
58.19 лв
/
С меки корици
172.42
€
337.22 лв
/
С меки корици
99.49
€
194.59 лв
/
С меки корици
16.54
€
32.36 лв
/
С твърди корици
172.42
€
337.22 лв
Здравейте! Аз съм Libroamiko, вашият книжен съветник.
Как мога да ви помогна?