info@libristo.bg
Ще ви отговорим до 24 часа
Безплатна доставка със Speedy над 129 лв
Box Now 9 лв
Speedy office 11 лв
Speedy 13 лв
ЕКОНТ 6 лв
Еконтомат/Офис на Еконт 6 лв
Контакт
Как се пазарува?
Помощ
Доставка
Box Now 9 лв
Speedy office 11 лв
Speedy 13 лв
ЕКОНТ 6 лв
Еконтомат/Офис на Еконт 6 лв
Безплатна доставка със Speedy над 129 лв
Наръчник за пазаруване
Тук сме за Вас!
info@libristo.bg
Моят акаунт
Станете част от общност от любители на книгите от цял свят и получавате много предимства.
Създай на безплатен акаунт
▸
Празна :-(
0
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Език
Немски език
Немски език
Книга
С меки корици
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vap...
Цялото описание
Код Либристо: 02821308
?
130 b
130 b
103
лв
50% вероятност
Ще претърсим света
Кога ще получа книгата?
30 дни за връщане на стоката
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition gesehen. Eine während des Heißdraht-CVD-Prozesses an den Drähten ablaufende, unerwünschte Phasenumwandlung führt nach wenigen Stunden Beschichtung zu mechanischem Versagen der Drähte und damit zu einem Prozessabbruch. In dieser Arbeit wurden Lösungen erarbeitet, um den Beschichtungsprozess über Tage hinweg stabil zu betreiben.
Информация за книгата
Пълно заглавие
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Автор
Artur Laukart
Език
Немски език
Немски език
Корици
Книга - С меки корици
Дата на издаване
2013
Брой страници
184
Баркод
9783839605288
Код Либристо
02821308
Издателство
Fraunhofer Verlag
Размери
148 x 210
