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Os processos de deposiçăo química a partir da fase vapor (CVD) do diamante săo extremamente complexos. Devido a essa complexidade o desenvolvimento de reatores de CVD requer a utilizaçăo de modelagens computacionais adequados. Neste trabalho se encontra uma modelagem sofisticada de um reator CVD para crescimento de filmes de diamante e se desenvolve um protótipo de simulador computacional para ajudar na resoluçăo das equaçőes diferenciais encontradas. Também há dados sobre as espécies químicas envolvidas. Finalmente apresenta-se uma série de resultados de simulaçőes.