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Reaktionsverhalten von Siliciumoberflachen in HF-basierten AEtzloesungen
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Das Werk befasst sich mit grundlegenden Untersuchungen von Reaktionsmustern kristalliner Si- Oberflächen in HF-basierten Ätzlösungen. Ausgehend von industriell relevanten HF HNO3 H2O Gemischen wurden HF/HNO3 Konzentrationsverhältnisse, durch gelöste Stickoxide bedingte Folgereaktionen sowie pH-Werte als wichtige Steuerparameter identifiziert. Die in diesem Kontext zentrale Rolle von Nitrosylionen wurde durch Untersuchungen von spezifischen Reaktionsmustern an as-cut und hydrophobierten Si-Oberflächen sowie bei Umsetzungen mit Oligosilanen als Modellverbindungen bestätigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen der gasförmigen, flüssigen und festen Systemkomponenten gewonnenen Erkenntnisse liefern einen wichtigen Beitrag zum Verständnis nasschemischer Halbleiterätzprozesse. Auf dieser Grundlage erschließen sich neue Anwendungsfelder, beispielsweise für eine Aufarbeitung feinkörniger Si- Rohstoffe (Korngröße 0,5 mm).
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