Над 4 милиона заглавия на английски и други езици! Открийте новата си история още днес! Безплатна доставка за поръчки над 69.99€

Проверка на състоянието на поръчката

Станете част от общност от любители на книгите от цял свят и получавате много предимства. Създай на безплатен акаунт

Безплатна доставка със Еконт над 69.99 €

Куриер Speedy 3.49 € Пункт на Speedy 3.49 € ЕКОНТ 3.99 € Еконтомат/Офис на Еконт 3.99 € Ekont Box 3.99 € Sameday 3.99 € Sameday box 3.99 € Box Now 3.99 €

Контакт

Как се пазарува?

Помощ

Моят акаунт

▸ Празна :-(

Semiconductor Wafer Cleaning Using Megasonics

Name: Semiconductor Wafer Cleaning Using Megasonics
Brand: VDM Verlag Dr. Mueller E.K.
SKU: 06818136
Price: 61.71 EUR
Availability: InStock
Author: Keswani Manish
ISBN: 9783639090307

Role of Electro-Acoustic and Cavitation Effects in Electrolyte Solutions

Keswani Manish

Език

Английски език

Книга С меки корици

Код Либристо: 06818136

Издателство VDM Verlag Dr. Mueller E.K., ноември 2008

Megasonic cleaning is routinely used in the §semiconductor industry to remove particle §contaminants... Цялото описание

Код Либристо: 06818136

149 b

61.71 €

120.70 лв

Външен склад Изпращаме след 9-15 дни

30 дни за връщане на стоката

Клиентите са закупили също

Bestimmung von Pestiziden in Lebensmitteln Angela Blender

С меки корици

52.60 € 102.87 лв

Enseignement Du Fle Aux Adultes Iraniens Mahdi Afkhami Nia

С меки корици

119.34 € 233.40 лв

Les Processus de Mise En Oeuvre Des Fonds Structurels Europeens Fiorella Vinci

С меки корици

109.91 € 214.97 лв

Hör mal (Soundbuch): Auf der Baustelle Christian Zimmer

Дипляна

10.97 € 21.46 лв

Das Ideal Im System Der Kantischen Philosophie (1920) Benzion Kellermann

С меки корици

37.32 € 73.00 лв

Shakespeare on screen - television Shakespeare Книга

С меки корици

26.35 € 51.53 лв

Drei Schwestern Anton Pavlovich Chekhov

Adobe ePub DRM

5.79 € 11.33 лв

Algorithmen und Datenstrukturen Lucien Sina

С меки корици

31.53 € 61.66 лв

Megasonic cleaning is routinely used in the §semiconductor industry to remove particle §contaminants from wafer and mask surfaces. Cleaning §is achieved through proper choice of chemical §solutions, power density & frequency of acoustic §field. Considerable work has been done to increase §the understanding of particle removal mechanisms in §megasonic cleaning using different solution §chemistries with varying ionic strengths. However, §to date, the focus of all these studies of particle §removal has been either cavitation or acoustic §streaming. It is well known that the propagation of §sound through a colloidal dispersion containing ions§results in the generation of two types of §oscillating electric potentials, namely, Ionic §Vibration Potential & Colloid Vibration Potential. §This book reviews some of the current work that §shows that these potentials and their associated §electric fields can exert significant forces on §charged particles adhered to a surface, resulting in§their removal.