Над 4 милиона заглавия на английски и други езици! Открийте новата си история още днес! Безплатна доставка за поръчки над 69.99€

Проверка на състоянието на поръчката

Станете част от общност от любители на книгите от цял свят и получавате много предимства. Създай на безплатен акаунт

Безплатна доставка със Еконт над 69.99 €

Куриер Speedy 3.49 € Пункт на Speedy 3.49 € ЕКОНТ 3.99 € Еконтомат/Офис на Еконт 3.99 € Ekont Box 3.99 € Sameday 3.99 € Sameday box 3.99 € Box Now 3.99 €

Контакт

Как се пазарува?

Помощ

Моят акаунт

▸ Празна :-(

Thin carbon containing films

Name: Thin carbon containing films
Brand: Sudwestdeutscher Verlag Fur Hochschulschriften AG
SKU: 06986467
Price: 65.94 EUR
Availability: InStock
Author: Jolanta Klocek
ISBN: 9783838132662

Jolanta Klocek

Език

Английски език

Книга С меки корици

Код Либристо: 06986467

Издателство Sudwestdeutscher Verlag Fur Hochschulschriften AG, април 2012

The composite materials highly enriched with carbon species attract rapidly growing attention motiva... Цялото описание

Код Либристо: 06986467

160 b

65.94 €

128.97 лв

Външен склад Изпращаме след 8-11 дни

До 30 дни за връщане на стоки

Клиентите са закупили също

This could be home Lilly Lucas

С меки корици

15.30 € 29.93 лв

Oyuncak Mahseri Hediyeli Kutulu, Ciltli

С меки корици

31.60 € 61.80 лв

Emgan Kergidu Ha Traou-All C'hoarvezel E Breiz-Izel Epad Dispac'h 1793 Lan -Mari Inisan

С твърди корици

34.44 € 67.36 лв

La vida de Lazarillo de Tormes, y de sus fortunas y adversidades ; Guzmán de Alfarache Mateo Alemán

Книга

57.41 € 112.28 лв

Doraemon Color 02 FUJIKO F. FUJIO

С меки корици

11.84 € 23.16 лв

Fur Ein Neues Transplantationsgesetz Thomas Gutmann

С меки корици

86.32 € 168.82 лв

The composite materials highly enriched with carbon species attract rapidly growing attention motivated by a wide spectrum of their potential applications. This book describes the detailed investigations concerning processing and stability of thin films including carbon species and their possible application as materials of a low dielectric constant (low-k). In order to gather a complex information regarding the chemical, morphological and dielectric properties of the produced layers a combination of the spectroscopy: X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), near edge X-ray absorption fine structure spectroscopy (NEXAFS) and Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR), microscopy: atomic force microscopy (AFM) and electrical characterization: capacitance-voltage technique (CV) have been applied.