Над 4 милиона заглавия на английски и други езици! Открийте новата си история още днес! Безплатна доставка за поръчки над 69.99€

Проверка на състоянието на поръчката

Станете част от общност от любители на книгите от цял свят и получавате много предимства. Създай на безплатен акаунт

Безплатна доставка със Еконт над 69.99 €

Куриер Speedy 3.49 € Пункт на Speedy 3.49 € ЕКОНТ 3.99 € Еконтомат/Офис на Еконт 3.99 € Ekont Box 3.99 € Sameday 3.99 € Sameday box 3.99 € Box Now 3.99 €

Контакт

Как се пазарува?

Помощ

Моят акаунт

▸ Празна :-(

Книги на английски > Technology, Engineering, Agriculture > Mechanical engineering & materials > Production engineering > Industrial quality control > CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155

CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155

Name: CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Brand: Cambridge University Press
SKU: 02439020
Price: 38.2 EUR
Availability: InStock
Author: Alexander A. Demkov
ISBN: 9781107408326

Alexander A. Demkov

Bill Taylor

H. Rusty Harris

Jeffery W. Butterbaugh

Език

Английски език

Книга С меки корици

Код Либристо: 02439020

Издателство Cambridge University Press, юни 2014

To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into convent... Цялото описание

Код Либристо: 02439020

92 b

38.20 €

74.72 лв

Външен склад Изпращаме след 9-15 дни

30 дни за връщане на стоката

Клиентите са закупили също

L'Eglise, La Republique Et La Liberte Clemenceau

С меки корици

15.53 € 30.37 лв

Plants vs. Zombies Žltý zomnibus

С твърди корици

19.20 € 37.56 лв

L'élevage des poules Fournier

С меки корици

22.62 € 44.24 лв

Dannelse og den formorkede fornuft Poul Ferland

С меки корици

11.64 € 22.77 лв

LAKOTA SERPIERI

С твърди корици

26.04 € 50.93 лв

LA VISION KING

С меки корици

25.11 € 49.10 лв

Wie entscheiden wir uns?

С меки корици

8.12 € 15.89 лв

Kanzler Klaus Von Bismarck Walter Flex

С меки корици

12.42 € 24.29 лв

Reviens Francoise Martin-McInnes

С меки корици

15.73 € 30.77 лв

Bibliotherapeutische Thematisierung von Sterben und Tod unter Berucksichtigung religioeser Vielfalt an der Schule mit Foerderschwerpunkt koerperliche Peter Schneider

С меки корици

28.47 € 55.68 лв

Anima mundi Susanna Tamaro

С меки корици

16.87 € 33.00 лв

Die Arterio-Ven sen Anastomosen Max Clara

С меки корици

55.96 € 109.46 лв

Vue sur scenes Jean Behue

С меки корици

8.54 € 16.70 лв

Amos de la Noche: Edición Especial Victor Garcia Montero

С меки корици

12.16 € 23.79 лв

Auf Der Suche Nach Der Bilanzwahrheit Carl Zimmerer

С меки корици

55.96 € 109.46 лв

Monarquía e islam político en Marruecos Mohamed Tozy

С меки корици

25.26 € 49.41 лв

To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.